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  • OYS-1200C-ⅢPECVD系统炉
    PECVD系统炉,全称等离子增强化学气相沉积炉,是一种基于等离子体化学气相沉积技术的薄膜沉积设备。其工作原理主要是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上产生辉光放电,使样品升温到预定的温度。随后通入适量的工艺气体,这些气体经过一系列化学反应和等离子体反应后,最终在样品表面形成固态薄膜。
    更新时间:2024-06-28型号:OYS-1200C-Ⅲ厂商性质:生产厂家
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  • GYS-1500C-IICVD系统(高真空)
    CVD系统(高真空)GYS-3Z+OYS-300F+(真空连接配件)1.包含一款通过CE认证的高温管式炉,2.包含一款GYS-3Z低成本的流量计控制系统 3.包含一款OYS-300F风冷分子泵机组参数表。
    更新时间:2024-06-28型号:GYS-1500C-II厂商性质:生产厂家
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