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  • OYS-1200C-ⅢCVD系统管式炉
    CVD系统管式炉是一种重要的材料制备设备,广泛应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之中。它主要用于在固态基材上沉积一层薄膜,其组成部分包括高温真空管式炉、气路和真空系统。
    更新时间:2024-10-31型号:OYS-1200C-Ⅲ厂商性质:生产厂家
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  • CVD系统
    管式炉搭配质子(浮子)供气系统真空系统和分子泵机组,形成高真空CVD系统。CVD系统管式炉是一种重要的材料制备设备,广泛应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之中。它主要用于在固态基材上沉积一层薄膜,其组成部分包括高温真空管式炉、气路和真空系统。
    更新时间:2025-01-08型号:厂商性质:生产厂家
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