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CVD系统/PECVD系统管式炉

CVD系统管式炉 CVD系统炉可倾斜变径管式炉可倾斜旋转管式炉查看全部产品

OYS-1200C1200℃可倾斜式旋转管式炉

1200℃可倾斜式旋转管式炉采用双层风冷结构，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型；搭配两路混气质子流量控制系统。是专为高校、科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属、非金属及其它化合物进行烧结、熔化、分析而研制的设备。

更新时间：2024-06-28型号：OYS-1200C厂商性质：生产厂家
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GYS-1700C+GYS-4F+真空泵CVD真空系统

CVD真空系统 GYS-1700C+GYS-4F+真空泵+真空连接配件以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和50段程序控温，B型热电偶，双层炉壳间配有风冷循环系统，最高温度能达到1700°C，可在1600℃下连续工作，控温精度±1C；该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做新材料样品的烧结或是退火（在真空或是惰性气体保护状态下)的合适产品。

更新时间：2024-06-28型号：GYS-1700C+GYS-4F+真空泵厂商性质：生产厂家
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OYS-1200C-ⅢCVD系统管式炉

CVD系统管式炉是一种重要的材料制备设备，广泛应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之中。它主要用于在固态基材上沉积一层薄膜，其组成部分包括高温真空管式炉、气路和真空系统。

更新时间：2024-06-28型号：OYS-1200C-Ⅲ厂商性质：生产厂家
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OYS-1200C-ⅢPECVD系统炉

PECVD系统炉，全称等离子增强化学气相沉积炉，是一种基于等离子体化学气相沉积技术的薄膜沉积设备。其工作原理主要是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上产生辉光放电，使样品升温到预定的温度。随后通入适量的工艺气体，这些气体经过一系列化学反应和等离子体反应后，最终在样品表面形成固态薄膜。

更新时间：2024-06-28型号：OYS-1200C-Ⅲ厂商性质：生产厂家
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GYS-1500C-IICVD系统（高真空）

CVD系统（高真空）GYS-3Z+OYS-300F+(真空连接配件)1.包含一款通过CE认证的高温管式炉，2.包含一款GYS-3Z低成本的流量计控制系统 3.包含一款OYS-300F风冷分子泵机组参数表。

更新时间：2024-06-28型号：GYS-1500C-II厂商性质：生产厂家
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